上海 Hakuto 離子束刻蝕機(jī) IBE
伯東 Hakuto 日本原裝設(shè)計(jì)制造離子束刻蝕機(jī) IBE (離子蝕刻機(jī)) 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 納米級(jí)別材料的表面刻蝕, 刻蝕均勻性 ≤±5%. IBE 刻蝕機(jī)幾乎滿足所有材料的刻蝕. 例如磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 廣泛應(yīng)用于 RF 射頻器件, MEMS 傳感器, 磁性器件 …, 滿足研發(fā)和量產(chǎn)需要. IBE 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料.
自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計(jì)交付約 500套離子刻蝕機(jī). 刻蝕機(jī)配置德國(guó) Pfeiffer 渦輪分子泵. 伯東公司超過 50年的離子束刻蝕市場(chǎng)經(jīng)驗(yàn), 擁有龐大的安裝基礎(chǔ)和經(jīng)過市場(chǎng)驗(yàn)證的刻蝕技術(shù)!
離子束刻蝕機(jī) IBE
適用于 RF 射頻器件, MEMS 傳感器, 磁性器件等刻蝕工藝, 滿足研發(fā)和量產(chǎn)需求
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型號(hào) |
4 IBE |
7.5 IBE |
16 IBE |
20 IBE-C |
MEL 3100 |
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樣品數(shù)量尺寸 |
4”φ, 1片 |
4”φ, 1片 |
6”φ, 1片 |
4”φ, 6片 |
3”φ-6”φ,1片 |
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均勻性 |
≤±5% |
≤±5% |
≤±5% |
≤±5% |
≤±5% |
離子束刻蝕機(jī) 10 IBE
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小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究 |
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離子束刻蝕機(jī) 20 IBE-C
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中等規(guī)模實(shí)驗(yàn)室研究的離子束刻蝕機(jī) |
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離子束刻蝕機(jī) 20 IBE-J
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適用于批量處理的大型科研離子束刻蝕機(jī) |
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離子蝕刻機(jī) 4 IBE
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小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究 |
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離子蝕刻機(jī) 7.5 IBE
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小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究 |
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