上海 KRi 考夫曼離子源應用
| No. | 標題 | 日期 | 閱讀數(shù) |
|---|---|---|---|
| 1 | 什么是等離子? KRi 如何創(chuàng)造它, 我們用它做什么? | 2025-10-21 | 5 |
| 2 | 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應用于 IBE 刻蝕 + E-beam 高真空雙腔系統(tǒng) | 2025-11-01 | 7 |
| 3 | KRi 霍爾離子源 EH 1000 應用于科研級薄膜沉積設備 | 2025-09-05 | 4 |
| 4 | KRi 三層柵網射頻離子源 RFICP 220 精密光學鍍膜應用 | 2025-09-19 | 12 |
| 5 | KRi 射頻離子源 RFICP 220 MEMS 探針光柵刻蝕應用 | 2025-09-19 | 17 |
| 6 | KRi 考夫曼離子源常見真空應用 | 2025-09-21 | 19 |
| 7 | KRi 射頻離子源 RFICP 220 精密光學鍍膜解決方案 | 2025-08-19 | 34 |
| 8 | 美國 KRi 射頻離子源 RFICP 40 應用于氧化物薄膜及異質結制備系統(tǒng) | 2025-08-12 | 78 |
| 9 | 上海伯東提供適用于光學鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng) | 2025-08-06 | 69 |
| 10 | KRi 離子源應用于藍玻璃 AR工藝 | 2025-08-11 | 90 |